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      “中国芯”关键材料国产化

      三乙硅烷基胺 （TDSA）
      • 中文名：三乙硅烷基胺
      • 英文名：Trisdisilanylamine
      • CAS号：14635-45-1
      • 纯度：≥98.0%
      • 用途：通过化学气相沉积（CVD）或原子层沉积（ALD）形成含硅薄膜
      • 规格：公斤级
      1，1，1-三（二甲氨基）乙硅烷 （TADS）
      1，1，1-三（二甲氨基）乙硅烷 （TADS）
      • 中文名：1，1，1-三（二甲氨基）乙硅烷
      • 英文名：1，1，1-Tris(dimethylamino)disilane
      • CAS号：2273763-87-2
      • 纯度：≥99.0%
      • 用途：通过等离子体加强原子层沉积（PEALD）形成高密度氧化硅
      • 规格：公斤级
      二异丙氨基乙硅烷 （DPDS）
      • 中文名：二异丙氨基乙硅烷
      • 英文名：Diisopropylaminodisilane
      • CAS号：151625-25-1
      • 纯度：≥99.0%
      • 用途：通过气相沉积形成晶种层
      • 规格：公斤级
      1，1-二氯-1-二异丙氨基乙硅烷 （DCDADS）
      • 中文名：1，1-二氯-1-二异丙氨基乙硅烷
      • 英文名：1，1-Dichloro-1-diisopropylaminodisilane
      • CAS号：2152681-89-3
      • 纯度：≥99.0%
      • 用途：通过等离子体加强原子层沉积（PEALD）形成氮化硅
      • 规格：公斤级
      五氯乙硅烷 （PCDS）
      • 中文名：五氯乙硅烷
      • 英文名：Pentachlorodisilane
      • CAS号：31411-98-0
      • 纯度：≥99.0%
      • 用途：通过等离子体加强原子层沉积（PEALD）形成氮化硅
      • 规格：公斤级
      1，1，1-三氯乙硅烷 （3CDS）
      • 中文名：1，1，1-三氯乙硅烷
      • 英文名：1，1，1-Trichlorodisilane
      • CAS号：78228-96-3
      • 纯度：≥99.0%
      • 用途：通过等离子体加强原子层沉积（PEALD）形成氮化硅
      • 规格：公斤级
      2，2，4，4-四甲硅烷基戊硅烷 （BNS）
      • 中文名：2，2，4，4-四甲硅烷基戊硅烷
      • 英文名：2，2，4，4-Tetrasilylpentasilane
      • CAS号：1668602-96-7
      • 纯度：≥98.0%
      • 用途：在低温通过化学气相沉积（CVD）快速形成外延硅和多晶硅
      • 规格：公斤级
      新戊硅烷（NPS）
      • 中文名：新戊硅烷
      • 英文名：Neopentasilane
      • CAS号：15947-57-6
      • 纯度：≥99.0%
      • 用途：在低温通过化学气相沉积（CVD）快速形成外延硅和多晶硅
      • 规格：公斤级
        共1页 8条
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